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本发明涉及加工晶片的设备，其具有在一个净化室（２）中的生产单元（１）的一个布置以及具有用于供应和排出生产单元（１）的工料的供给系统。该供给系统具有第一供给管线（７ａ）和第一排出管线（８ａ），在该供给管线和排出管线中比周围大气重的工料从上通向...
该专利属于因芬尼昂技术股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过因芬尼昂技术股份公司授权不得商用。

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