下载在亲水性介电材质上形成低介电常数材质的方法及结构的技术资料

文档序号:3216627

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种在亲水性介电材质上形成低介电常数材质的方法,包括提供一基底,基底上已形成有一低介电常数介电层及在此低介电常数介电层上形成有一亲水性介电层。形成一HMDS[((CH↓[3])↓[3]Si)↓[2]NH]附着层于此亲水性介电层上。在此HMD...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。