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本发明公开了一种晶圆半导体生产加工用清洗装置，包括工作台，所述工作台上端对称固定连接有两个安装板，两个所述安装板相互靠近的侧壁转动连接两个转轴，两个所述转轴相互靠近的侧壁固定连接有两个固定架，两个所述固定架上端均螺纹连接有第一螺纹杆，所述第...
该专利属于邱献超所有，仅供学习研究参考，未经过邱献超授权不得商用。

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