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一种沟槽隔离区的制作方法，是以微影及蚀刻技术限定出一沟槽隔离区，并通过一次间隔壁的制作在此沟槽隔离区两侧形成一间隔壁，以消除硅基材上的此沟槽隔离区与一相邻的主动区域之间尖锐的交界角，进而增加后续闸极多晶硅的蚀刻制作空间（ｐｒｏｃｅｓｓ ｗ...
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