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一种用于形成层状超晶格材料的液态母体被涂覆（３２４）在集成电路衬底（１２２，２２４，５０８）。利用递变率为每秒５０℃的快速递变退火（“ＲＲＡ”）技术（３２８），在６５０℃之维持温度下对该母体涂层在氧气中进行时间为３０分钟之维持时间的退火。...
该专利属于塞姆特里克斯公司;松下电器产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过塞姆特里克斯公司;松下电器产业株式会社授权不得商用。

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