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本发明涉及化学气相沉积设备。在该化学气相沉积设备中，可与外部ＲＦ电源３０２相连的ＲＦ电源连接部分３０３安装在腔室３００的上部；ＲＦ电极板３０６安装在所述腔室内，所述ＲＦ电极板以预定的间隔与所述腔室的内上表面隔开并且以预定的间隔与设置在所述Ｒ...
该专利属于株式会社IPS所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社IPS授权不得商用。

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