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本发明公开了一种用于半导体膜的化学汽相沉积装置，它包括一种水平管式反应器，配有一个用于在其上安装基片的基座、用于加热该基片的加热器、原料气加入部分、和反应气体排气部分，其中该装置的结构使得与基片相对的管式反应器壁的部分由原料气通道的上游侧向...该专利属于日本派欧尼股份株式会社;德岛酸素工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本派欧尼股份株式会社;德岛酸素工业株式会社授权不得商用。