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公开了一种制备半导体膜的化学汽相淀积设备，所述的设备包括装有以下设备的卧式反应管：支承衬底的基座、加热衬底的加热器、使送入反应管的配料气体的进料方向基本上与衬底平行的方式配置的配料气体引入段以及反应气体排出段，以及在面对衬底的反应管壁上还有...该专利属于日本派欧尼股份株式会社;德岛酸素工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本派欧尼股份株式会社;德岛酸素工业株式会社授权不得商用。