下载消除浅沟槽隔离区的漏电流的方法的技术资料

文档序号:3215053

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种消除浅沟槽隔离区的漏电流的方法,至少包括如下步骤:进行一蚀刻制程,于基底中形成沟槽;进行一热氧化制程,并同时导入反二氯乙烯做为制程气体,于该沟槽表面成长一衬氧化层,并将该沟槽的多数个角落圆化;形成一绝缘层,填入该沟槽中。具有消除浅沟槽隔...
该专利属于矽统科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过矽统科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。