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本实用新型公开了一种掩模版、约瑟夫森结元件及量子芯片,属于量子信息领域,尤其是量子计算技术领域。该掩模版包括具有第一子层和第二子层的介质层,所述介质层的厚度与待制备的目标图形的线宽之比大于图形化设备允许的切割深宽比,所述第一子层上形成有第一...该专利属于合肥本源量子计算科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥本源量子计算科技有限责任公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种掩模版、约瑟夫森结元件及量子芯片,属于量子信息领域,尤其是量子计算技术领域。该掩模版包括具有第一子层和第二子层的介质层,所述介质层的厚度与待制备的目标图形的线宽之比大于图形化设备允许的切割深宽比,所述第一子层上形成有第一...