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公开了在层积中，例如原子层沉积（ＡＬＤ）和其它顺序化学沉积（ＣＶＤ）过程中，避免沉积膜的污染的新方法和装置，其中ＡＬＤ膜的ＣＶＤ沉积污染通过使用一种有效地使污染物气体在通入ＡＬＤ腔室之前在气体输送装置的壁元件上沉积的预热反应室来防止。...
该专利属于杰努斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过杰努斯公司授权不得商用。

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