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ＳｉＯＮ是一种很有前途的无机抗反射膜材料，然而它的缺点是：存在光刻胶底膜的留存问题，主要原因是由于ＳｉＯＮ表面的胺基（－ＮＨ＃－［２］）集团与光刻胶反应所致，这在很大的程度上影响了图形转移的准确性。随着工业生产中光刻向深紫外短波长转移－－从...
该专利属于上海华虹（集团）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹（集团）有限公司授权不得商用。

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