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形成嵌合式非挥发性存储器的方法技术
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文档序号:3213563
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一种形成嵌合式非挥发性存储器的方法。首先,在底材上形成氧化层/氮化层/氧化层,通过位元线微影在氧化层/氮化层/氧化层上形成光阻并执行一离子植入步骤,以在底材内形成位元线结构。接着,沉积第一多晶硅层,并通过字符线微影在第一多晶硅层上形成光阻,...
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