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半导体装置的制造设备制造方法及图纸
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文档序号:3213251
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一种半导体装置的制造设备包含:一反应室,该反应室具有一第一侧、一第二侧、和一侧壁,此反应室包含经过该第二侧的一排气孔,该侧壁介于该第一侧和第二侧间;在该反应室中的一承载器托住一基板于其上,该承载器平行于该第二侧;一抽气板,介于该承载器和第二...
该专利属于周星工程股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过周星工程股份有限公司授权不得商用。
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