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本发明涉及显示的技术领域，公开一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置，该减反膜的制备方法，包括在基板的一侧形成功能层，功能层包括第一单体和第二物质，第一单体为在第一设定工艺条件下可聚合的材料，第二物质为在第二设定工艺条件下可去除的材料...
该专利属于南京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京京东方显示技术有限公司授权不得商用。

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