一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示的技术领域，公开一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置，该减反膜的制备方法，包括在基板的一侧形成功能层，功能层包括第一单体和第二物质，第一单体为在第一设定工艺条件下可聚合的材料，第二物质为在第二设定工艺条件下可去除的材料；在第一设定工艺条件下，处理功能层使得第一单体聚合以形成抗反射膜层；在第二设定工艺条件下，清洗抗反射膜层中的第二物质，以在抗反射膜层上形成凹凸微结构。可以有效降低反射，也可以起到抗反射的作用，环境光线通过凹凸微结构渐变式折射抵消，使外部光线照射在凹凸微结构上时，使显示器在强光环境中可视，不会有过多的反射光线反射出，让使用者可以清楚的观看显示面板显示的内容。面板显示的内容。面板显示的内容。

【技术实现步骤摘要】
一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置


[0001]本专利技术涉及显示的
，特别涉及一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置。

技术介绍

[0002]随着信息技术的发展，显示器广泛应用于生活中的方方面面，而且对显示器的品质要求也越来越高，低反射就是其中一点。如当今的许多显示设备都使用传感器来自动检测环境光的明亮程度，然后提高屏幕的亮度增加可读性，从而抵消强烈的表面反射。虽然这种类型的自适应亮度控制可以帮助提高可读性，但同时也加剧了显示器的功耗。

技术实现思路

[0003]本专利技术公开了一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置，用于让使用者可以清楚的观看显示面板显示的内容。
[0004]为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0005]第一方面，本专利技术提供一种减反膜的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
[0006]在基板的一侧形成功能层，所述功能层包括第一单体和第二物质，所述第一单体为在第一设定工艺条件下可聚合的材料，所述第二物质为在第二设定工艺条件下可去除的材料；...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减反膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：在基板的一侧形成功能层，所述功能层包括第一单体和第二物质，所述第一单体为在第一设定工艺条件下可聚合的材料，所述第二物质为在第二设定工艺条件下可去除的材料；在所述第一设定工艺条件下，处理所述功能层使得所述第一单体聚合以形成抗反射膜层；在所述第二设定工艺条件下，清洗所述抗反射膜层中的第二物质，以在所述抗反射膜层上形成凹凸微结构。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一设定工艺条件具体包括：采用光处理和/或热处理使得所述第一单体发生聚合反应。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一单体包括紫外光可聚合单体，所述紫外光可聚合单体包括甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸
‑
β
‑
羟丙酯、丙烯酸
‑
3,5,5
‑
三甲基己酯、1,4
‑
丁二醇二丙烯酸酯或丙烯酸
‑3‑
(三甲基烷基)丙酯中的至少一种；和/或，所述第一单体包括热聚合单体，所述热聚合单体包括甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸
‑
β
‑
羟丙酯、丙烯酸
‑
3,5,5
‑
三甲基己酯、1,4
‑
丁二醇二丙烯酸酯或丙烯酸
‑3‑
(三甲基烷基)丙酯中的至少一种。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第二设定工艺条件具体包括：使用有机溶剂溶解所述抗反射膜层中的第二物质；其中，所述第二物质包括液晶分子。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂包括丙酮。6.一种减反膜结构，其特征在于，包括：基板；以及位于所述基板一侧的抗反射膜层，其中，所述抗反射膜层包括凹凸微结构，所述凹凸微结构的材料包括聚合物；所述凹凸微结构包括：垂直所述基板的若干个...

【专利技术属性】
技术研发人员：张创优，张卫锴，
申请(专利权)人：南京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：