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本发明揭示一种新的半导体元件的图案转移的方法。首先，进行一校调步骤以调整所需的第一光学参数与一第二光学参数，以改变主特征的曝光波峰的两侧峰的位置并使得主特征的曝光波峰与其相邻侧峰相互部分重叠。然后，借助一具有半透光特性的光罩进行一微影工艺步...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。

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