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一种减少废气排放量的蚀刻方法。首先，提供为介电质层所覆盖的底材，并将底材放置于耦合至射频电源与Ｃ＃－［３］Ｆ＃－［８］源的反应室。然后，在反应室内以低射频功率与低压力形成一等离子体，并以此等离子体蚀刻介电质。最后，终止等离子体的存在并将底材...
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