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一种生成在一衬底上刻印目标图案时使用的掩膜的方法。该方法包括以下步骤：（ａ）确定将要刻印在一衬底上表示一电路设计的一目标图案；（ｂ）所述目标图案按照系数为０．５缩小，以生成第一图案；以及（ｃ）执行布尔操作，结合目标图案与所述第一图案，生成第...
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