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构图低介电常数介电层的方法技术
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下载构图低介电常数介电层的方法的技术资料
文档序号:3212205
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一种定义低介电常数介电层的方法。直接暴露在高能量流下来定义低介电常数介电层,而不需要使用任何的光阻层,借以使低介电常数介电层暴光的部分固化,而变的不溶于显影溶液中,低介电常数介电层未曝光的部分则会溶解在显影溶液中,并将会在显影步骤中被移除,...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
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