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一种改善的刻印光刻方法包括使用定向流体压力把模型压入一衬底支撑的薄膜（Ａ）中。最好是模型和／或衬底足够地有弹性以在流体压力（Ｃ）下提供广的区域接触。流体加压可以通过使模型相对于薄膜密封并在加压腔中放置最终的组件而实现。它也可以通过使模型经受...
该专利属于纳诺尼克斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳诺尼克斯公司授权不得商用。

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