下载共聚物膜的制作方法、通过该形成方法制作的共聚物膜、及利用共聚物膜的半导体装置的技术资料

文档序号:3210146

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供当用作构成半导体装置的层间绝缘膜时,在与与其下表面、上表面接触的其它半导体材料的界面上具有高附着性,另外膜整体的有效介电常数可以进一步降低的有机聚合物膜的制作方法。具体地,将气体的多种有机单体穿过在反应室内生成的等离子后喷射到加热...
该专利属于日本电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本电气株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。