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本实用新型公开了一种晶圆单片生产用清洗装置，包括高压清洗枪，所述高压清洗枪的内侧下部设有流道，所述高压清洗枪的一侧设有与流道连通的供液管，所述流道的内侧设有导套，且导套的底端伸至高压清洗枪的下方，所述导套通过多个均匀设置的撑片与流道的内壁固...
该专利属于苏州军科域光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州军科域光电科技有限公司授权不得商用。

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