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一种多晶硅层的制作方法，包括下列步骤：（ａ）提供一衬底；（ｂ）于衬底上形成一阻障层；（ｃ）于阻障层上形成一具有低热传导系数的多孔材料层；（ｄ）于多孔材料层上形成一非晶硅层；以及（ｅ）进行一激光退火制作工艺。由于多孔材料层具有低热传导系数，故...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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