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半导体衬底和半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:3209901
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一种半导体衬底, 其包括: 具有相对的第1主表面和第2主表面的第1导电型的衬底; 基于杂质扩散在上述第1主表面内形成的、与上述第1导电型不同的第2导电型的杂质扩散层; 基于杂质扩散在上述第2主表面内局部形成、具有抵...
该专利属于三菱电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱电机株式会社授权不得商用。
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