温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种使用偶极子照射来产生掩模的方法，该掩模用于印制在基片上具有垂直定向特征和水平定向特征的图形，所述方法包括步骤：识别包含在所述图形中的背景区域；在所述背景区域中产生一个包含不可分辨的水平定向特征的垂直元件掩模；和在 ...
该专利属于ASML蒙片工具有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML蒙片工具有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。