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利用至少两个波长的光刻系统的对准系统和方法技术方案
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下载利用至少两个波长的光刻系统的对准系统和方法的技术资料
文档序号:3209686
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一种用于光刻装置的对准系统,包括: 具有第一波长和第二波长的对准辐射源; 检测系统,包括第一波长通道和第二波长通道,设置第一波长通道接收所述对准标记第一波长处的对准辐射,设置第二波长通道接收来自所述对准标记第二波长处的对准辐射;...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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