下载具轻掺杂漏极的半导体组件的形成方法的技术资料

文档序号:3209433

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本发明提供一种具轻掺杂汲极的半导体组件及其形成方法。本发明方法包含提供一半导体底材,是具有第一区域及第二区域。然后,依序形成闸极介电层及导体层在半导体底材上。接着,选择性地去除一部分的导体层,用以形成第一闸极在第一区域对应的闸极介电层上,并...
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