下载用于同时形成硅上金属电容器的最佳透过注入的技术资料

文档序号:3209350

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一种MOS结构,包括在其中形成有扩散区的硅基片,所说的扩散区的电阻为50欧姆/sq.或更小,并且是距所说的硅基片的表面约500埃或更大的深度处形成的。...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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