专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
国际商业机器公司
>
用于同时形成硅上金属电容器的最佳透过注入制造技术
>技术资料下载
下载用于同时形成硅上金属电容器的最佳透过注入的技术资料
文档序号:3209350
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种MOS结构,包括在其中形成有扩散区的硅基片,所说的扩散区的电阻为50欧姆/sq.或更小,并且是距所说的硅基片的表面约500埃或更大的深度处形成的。...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。