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一种低介电常数分层材料和用于制造所述分层材料的方法，所述方法包括以下步骤：ａ）提供一个表面；ｂ）将介质材料旋涂到所述表面上；ｃ）固化所述介质材料，形成介质层；ｄ）将低介电常数材料旋涂到所述介质层上；以及ｅ）固化所述低介电常数材料，形成低介电...
该专利属于霍尼韦尔国际公司所有，仅供学习研究参考，未经过霍尼韦尔国际公司授权不得商用。

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