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本实用新型涉及气体处理技术领域，尤其涉及一种半导体制作工艺用气体处理机构，解决了现有技术中现有的气体处理机构只能单单对一种特定特性的气体进行处理的问题。一种半导体制作工艺用气体处理机构，包括传输气管，所述传输气管一端连通有连接座，所述连接座...
该专利属于中瑞机电工程（天津）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中瑞机电工程（天津）有限公司授权不得商用。

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