一种半导体制作工艺用气体处理机构制造技术

本实用新型专利技术涉及气体处理技术领域，尤其涉及一种半导体制作工艺用气体处理机构，解决了现有技术中现有的气体处理机构只能单单对一种特定特性的气体进行处理的问题。一种半导体制作工艺用气体处理机构，包括传输气管，所述传输气管一端连通有连接座，所述连接座设置有多个，两个所述连接座相邻一侧连通有过滤管道，所述过滤管道底部固定连接有旋转杆，所述旋转杆底端固定连接有稀释管，所述稀释管底部固定连接有微型气泵，所述稀释管两端分别与两个连接座相邻一侧连通。本实用新型专利技术通过设置了传输气管、连接座、过滤管道、旋转杆、释管、微型气泵、固定底座以及中转管，达到了方便针对不同特性的气体进行过滤或稀释处理的效果。同特性的气体进行过滤或稀释处理的效果。同特性的气体进行过滤或稀释处理的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体制作工艺用气体处理机构


[0001]本技术涉及气体处理
，尤其涉及一种半导体制作工艺用气体处理机构。

技术介绍

[0002]半导体是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质，其电导率容易受控制，可作为信息处理的元件材料。从科技或是经济发展的角度来看，半导体非常重要。很多电子产品，如计算机、移动电话、数字录音机的核心单元都是利用半导体的电导率变化来处理信息。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种。
[0003]对于半导体的制作需要使用到极多的气体对其进行处理，而这些用于半导体制作的气体在使用过后的处理一直是一难题，由于半导体制作使用的气体的种类繁多，不同的气体处理的方式也不同，有的气体需要过滤，有的气体需要稀释再处理，现有的半导体制作工艺用气体处理机构只能单单对一种特定特性的气体进行处理，效率低下，为此我们推出了一种半导体制作工艺用气体处理机构以解决上述提到的现有的气体处理机构只能单单对一种特定特性的气体进行处理的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体制作工艺用气体处理机构，包括传输气管(1)，其特征在于，所述传输气管(1)一端连通有连接座(2)，所述连接座(2)设置有多个，两个所述连接座(2)相邻一侧连通有过滤管道(3)，所述过滤管道(3)底部固定连接有旋转杆(4)，所述旋转杆(4)底端固定连接有稀释管(5)，所述稀释管(5)底部固定连接有微型气泵(6)，所述稀释管(5)两端分别与两个连接座(2)相邻一侧连通，所述旋转杆(4)两侧转动连接有固定底座(7)，一侧所述连接座(2)远离传输气管(1)的一侧连通有中转管(8)。2.根据权利要求1所述的一种半导体制作工艺用气体处理机构，其特征在于，所述中转管(8)远离传输气管(1)的一端连通有阀座(9)，所述阀座(9)内部设置有圆形孔。3.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏久荣，樊婵，
申请(专利权)人：中瑞机电工程天津有限公司，
类型：新型
国别省市：