下载晶圆清洗的旋转湿制程及其设备的技术资料

文档序号:3208830

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一种旋转湿制程,至少包括如下步骤:    将一基板置于一旋转台上,其中该旋转台具有一加温设备,且该加温设备使该基板达到一第一温度;    使该旋转台进行旋转,并藉以带动位于该旋转台上的该基板;    喷洒一化学品至该基板的表面。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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