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一种抗蚀剂材料和一种微加工方法，提供了高分辨率的微加工而无需使用例如电子束或离子束的昂贵的照射装置。即，该抗蚀剂材料和该微加工方法使用目前使用的曝光装置实现了进一步精细的微加工。包含过渡金属如Ｗ和Ｍｏ不完全氧化物的抗蚀剂层被选择性曝光和显影...
该专利属于索尼公司所有，仅供学习研究参考，未经过索尼公司授权不得商用。

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