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掩模及其制造方法、采用该掩模的半导体装置的制造方法制造方法及图纸
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下载掩模及其制造方法、采用该掩模的半导体装置的制造方法的技术资料
文档序号:3208683
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一种掩模,其特征在于: 具有: 板状体,包括掩模图形部和pn结部、 电流供给部,为上述pn结部供给电流; 通过向上述pn结部通电,产生珀耳帖效应,能够控制上述掩模图形部的温度。...
该专利属于罗姆股份有限公司、株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过罗姆股份有限公司、株式会社东芝授权不得商用。
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