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膜处理方法和膜处理装置制造方法及图纸
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文档序号:3208681
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一种膜处理方法,其特征在于,包括: 处理工序,将电子束发射到被处理表面的膜上,以处理所述膜; 电流测量工序,在所述处理工序中,在所述被处理体的附近捕捉电子束而作为电流值进行测量; 检测工序,根据按时间对所述电流值积分所得的...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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