专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
拉姆研究有限公司
>
控制等离子体激励功率的等离子体处理方法和装置制造方法及图纸
>技术资料下载
下载控制等离子体激励功率的等离子体处理方法和装置的技术资料
文档序号:3208578
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
提供到真空等离子体处理腔内的等离子体的RF功率量响应存储于计算机存储器中的信号以预编程为基础逐渐改变。计算机存储器存储信号从而在产生逐渐变化时其它处理腔参数(压强、气体种类和气流速率)保持恒定。所存储的信号使得蚀刻出倒圆的边角而非锐利的边缘...
该专利属于拉姆研究有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拉姆研究有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。