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一种含有非线性光学材料层的光刻用掩膜，包括保护层（１）、非线性光学材料层（２）和保护层（３）其特征在于所述的保护层（１）和保护层（３）均由氮化硅或硫化锌和二氧化硅的混合材料构成；所述的非线性光学材料层（２）由铋构成。...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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