下载制作半导体元件的方法的技术资料

文档序号:3208360

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一种形成半导体元件的方法,该方法包括下列步骤:形成一基极绝缘层于半导体底材上。形成一基极于该基极绝缘层之上,随后执行第一次离子布植以形成延伸发射极集电极接面。再形成间隙壁于该基极的侧壁上,包含一衬层位于该基极以及该间隙壁之间。以第二次离子布...
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