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半导体结构及改善其ESD与过负荷强度的方法技术
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文档序号:3208222
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一半导体结构是包含一第一导电型态之一基层(100,Ⅳ),该第一导电型态之一第一层(102,Ⅲ),其是配置于该基层(100,Ⅳ)之上,并具有低于该基层(100,Ⅳ)之掺质浓度之一掺质浓度,以及一第二导电型态之一第二层(104,Ⅱ),其是为了于...
该专利属于因芬尼昂技术股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过因芬尼昂技术股份公司授权不得商用。
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