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提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示设备的方法。所述蚀刻剂组合物包括：约8wt％至约15wt％的无机酸化合物；约2.5wt％至约8wt％的磺酸化合物；约6wt％至约14wt％的硫酸盐化合物；约40wt％至约55wt％的有机酸化...
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