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一种半导体装置的制造设备的清洁方法，包含以下步骤：一供气步骤，将一第一清洁气体与一第二清洁气体供应到一处理室之中，并使该第一与第二清洁气体形成为一混合气体，其中该第一清洁气体系含有氟化碳气体与氧气，且该第二清洁气体则含有氮气；一活化步骤，通...
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