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一种在电绝缘膜中形成的柱塞部埋入铜形成电传导性镶嵌的镶嵌处理方法，其特征是：蚀刻处理ｌｏｗ－ｋ材料以后，在蚀刻处理的同一处理室、或通过真空中运送在另外的处理室，将用电压加速的离子或对加速后的该离子除去带电的中性粒子冲击蚀刻处理面，进行碳化、...
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