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一种在衬底上形成精细图形的方法，包括：　　　　在衬底上形成光致抗蚀剂层，光致抗蚀剂适于由波长为Ｗ↓［１］的ＵＶ辐射曝光，并具有玻璃转化温度Ｔ↓［ｇ］和分解温度Ｔ↓［ｄ］；　　　　受到ＵＶ辐射的光致抗蚀剂层的曝光部分形成具有曝光部分和未曝光部...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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