温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种不使用真空装置形成接触孔的方法，将与多晶硅膜（１４）的源极区域（１６）、漏极区域（１８）及栅电极（３４）之上的接触孔形成区域对应的位置的抗蚀剂膜曝光，显影，形成掩模柱（４０）。之后，在除去了掩模柱（４０）的整个玻璃基板（１０）上涂敷液体...
该专利属于精工爱普生株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过精工爱普生株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。