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一种源漏下陷型超薄体SOIMOS晶体管及其制作方法技术
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文档序号:3206871
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一种源漏下陷型超薄体SOI MOS晶体管,包括一栅电极,一栅介质层,一对栅电极侧墙介质层,一沟道区,一源区和一漏区;所述栅电极位于栅介质层之上;所述栅介质位于沟道层之上;所述沟道区两端分别与所述源区和漏区相连;所述晶体管位于绝缘衬底上; ...
该专利属于北京大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京大学授权不得商用。
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