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一种形成不具有一侧叶（ｓｉｄｅｌｏｂｅ）的光致抗蚀剂层的方法，其利用对一光掩模进行曝光完成，该光掩模具有一侧叶区、一图案区以及一中间区，其中，该侧叶区对应于该光致抗蚀剂层产生该侧叶的区域，该图案区对应于该光致抗蚀剂层产生一图案的区域，该中间...
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