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与深亚微米射频工艺兼容的硅光电探测器制造技术
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下载与深亚微米射频工艺兼容的硅光电探测器的技术资料
文档序号:3206002
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一种与深亚微米射频工艺兼容的硅光电探测器,包括一个p↑[-]型半导体衬底,其特征在于,所述p↑[-]型半导体衬底内设置有一个深n型阱,n型阱设置于所述衬底上,浅沟槽隔离区设置于n型阱中,四条叉指状的P↑[+]型扩散区设置在n型阱上;所述四条...
该专利属于天津大学所有,仅供学习研究参考,未经过天津大学授权不得商用。
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