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本发明公开了一种激光退火装置，适用于一激光退火工艺。此激光退火装置包括一激光加工模块、一电阻量测模块以及一主机电路模块。其中激光加工模块系提供一激光束至一非晶硅薄膜，以使其再结晶形成一多晶硅薄膜，而电阻量测模块适于量测多晶硅薄膜的片电阻，以...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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