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本发明是通过使用加热化学气体而生成的雾状化学剂来进行基片清洗的一个系统，尤其适用于半导体硅片与平板显示器的清洗，而这种雾状化学剂则是由加热化学气体而产生的。这种不同的被加热的雾状化学剂，依不同的工艺程序经加压后，连续地进入处理容器内，这些微...
该专利属于上海思恩电子技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海思恩电子技术有限公司授权不得商用。

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